PVD超硬质涂层（工模具）真空镀膜机平板智能显示器的真空镀膜技术
随着科技的发展，计算机、电视机、手机、办公室自动化设备等，对平板显示器件的需求急剧增长，极大的促进了各类平板显示器件的发展。由于平板显示器的兴起，催生起更多真空镀膜技术的发展，今天我们就来谈谈真空镀膜设备在平板显示中的发展和应用。
市面上有很多生产平板显示器的各类型厂商，都会用到真空镀膜技术，其实生产的ITO膜镀膜生产线设备是在浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以的控制系统，镀制SO2/ITO膜层，生产过程全部自动，连续进行。
真空镀膜设备我们可能见到的有很多，如真空镀膜机等等，这里为大家介绍一种概述电磁屏蔽膜专用真空镀膜设备，具体如下：
电磁屏蔽膜专用真空镀膜设备是在手机、笔记本电脑、电话机、DVD等电子产品塑胶外壳表面上镀制电磁屏蔽（EMI）薄膜的专用设备。该设备利用等离子体表面处理技术，并采用真空蒸发和磁控溅射镀膜工艺相结合，以真空蒸发镀Ag、Cu，以磁控溅射镀Ni/Cr不锈钢，可实现不同电阻要求的EMI镀膜。
电磁屏蔽（EMI）膜专用真空镀膜设备特点及基本参数：
1.有卧式、立式结构，可实现单面同时镀膜；
2.生产效率,快速度达1分钟/节拍；
3.模组化设，维护方便；
4.镀膜工艺成熟，成品率高；
5.直流磁控溅射阴极可随客户要求选择；
6.真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成；
7.大尺寸；2200mm*1200mm(长*宽)；
8.小尺寸；500mm*400mm(长*宽)。
箱式真空镀膜机
采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。
设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。
采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。
工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳可靠。
采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。
采用***的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定可靠，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。
适用范围:用于生产IR-CUT滤光片、分色滤光片、高反射膜、AR膜、长波通、短波通和多种电学薄膜
真空镀膜设备镁铝合金镀膜的性质真空镀膜设备应用范围
真空镀膜设备镁和镁的合金的低密度使其比性能提高。例如20o时的弹性模量为45Gpa,比铝(70Gpa)和Ti(120Gpa)的低。镁和镁合金质量小的特点使其在交通运输、航空I业和航天I业上具有巨大的应用前景。真空镀膜设备在空气气中镁 会慢慢氧化，失去银白光泽而变黑。若温度提高至400C以上,镁的氧化速度增快，超过500°C以后氧化速度更快，会着火燃烧,此时会生成氧化镁和少量。镁燃烧时会发出非常强烈的光亮,颇受人们的青睐。早期就被利用于摄影照明，给人们留下美好的形象和记忆。利用这一特点 ,人们制作成的各种形色的在夜空飞舞,给人们带来极大的欢乐。
由于化学活泼性高,金属镁是耐腐蚀性能***差的金属之一。 各种类型大气均会对镁产 生程度不同的腐蚀作用。在干燥的空气中,它的表面上形成一层暗淡的的疏松多孔氧化膜,在潮湿大气中,生成的产物组成大致为Mgco3:3H2O Mgso4 7H2o Mg(OH)2。大气湿度增加工业地区和海洋环境的大气中所含的和氢化物等物质能加重镁的腐蚀。镁中氯化物杂质及铁杂质也会加速镁的腐蚀。因此,工业生产的镁锭必须镀膜钝化。