PVD真空电镀金属真空电镀价格
PVD真空电镀是一种真空沉积工艺，近年来越来越多地被使用，不再被视为实验室工艺。它已经扩大规模，以合理的成本处理大型复杂零件几何形状。
许多公司已经意识到将产品PVD真空电镀的好处。根据基材和应用，可以从室温沉积到高达500摄氏度。
PVD真空电镀能为产品提供更均匀的沉积物，在某些情况下提高了六倍的附着力，更多的材料选择以及不需要处理的***化学物质。由于PVD更环保且化学处理成本极低，像不锈钢首饰电镀、五金电镀、钟表电镀等都使用PVD进行镀膜加工。
电镀是工业已经使用多年的过程，在当今快节奏的商业环境中，真空电镀厂家需要跟上由于技术改进而不断发展的步伐，必须时刻关注着电镀市场的动态走向。
充气方法可选用质量流量计、浮子流量计 针阀及相应的充气阀门，并可挑选多路充气管路及相应流量参数。 真空镀膜设备依据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应外表丈量。 依据设备使用特性，可挑选手动、半自动、全自动或其组合的控制方法。 完善的报警体系，对真空室体、分散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。
当产品经PVD真空电镀时，将其置于夹具中并置于真空容器中。将装置抽真空至所需的真空压力。根据基材和使用的工艺，产品将被预热并进行溅射清洁。
在溅射清洁完成之后，向阴极材料施加负电荷，并且如果基板是导电的，则向基板施加负偏压。PVD真空电镀的沉积材料以高能量水平到达基板，并沿基板表面行进，直到达到优选的成核位置。从源头连续轰击离子会溅射沉积材料，因此您不会遇到电镀涂层常见的大边缘堆积。
