





镀膜机厂家介绍光学监控法的特点
真空镀膜机膜厚的监控方法较多,目前较新的方法是光学监控法,其相对于的传统的石英晶体微量平衡法来说,光学监控法更具有准确性,因为传统的测试的方法很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成较大的误差。下面镀膜机厂家就来为大家介绍一些光学监控法的特点。
光学监控法可以有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差,提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长,光学监控法非常适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。能够更准确地控制膜层厚度 。
上述所说就是镀膜机厂家为大家介绍的光学监控法的一些特点,而从中我们不难看出光学监控相比传统的监控法来说是一种更适合对真空镀膜机膜厚的监测方法。
真空离子镀膜机的自动化发展
真空离子镀膜机是太阳能真空管生产的关键设备,随着自动化技术的发展,其工艺要求及自动化程度也越来越高。
开始的真空离子镀膜机控制系统采用继电器控制,由模拟线路板及单片机等电路组成实现控制功能,因线路繁杂以及电子元器件的不稳定造成设备性能的不稳定,并且给维修工作带来很大困难,另外操作界面不直观,误操作现象时有发生。
目前,真空离子镀膜机已广泛采用PLC可编程器设计控制系统,该技术已相当成熟,基本取代了单片机,并采用***的人机界面触摸屏进行更加直观的人机对话,可方便地设定参数,由控制系统按工艺流程分步或自动运行,具有各种系统保护以及故障提示、报警信息等功能,并且通过利用PLC通讯功能,与上位机通讯,实现对真空离子镀膜机工艺流程的全程监控,以便工程师及时发现并处理故障信息以及远程修改工艺参数等,较大地方便了生产过程质量控制和管理。
真空电镀机操作注意事项
左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至110mA时,左旋钮"1"旋转至指向2区段测量位置。
当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时,低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
真空镀膜机开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。
低压阀拉出。重复一次⑦动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7Pa时,开高压阀(阀杆顺时针旋转)。
等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时,开规管灯丝开关。
发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。
左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
旋转发射调节钮“4”,使高压真空表“5”内指针指向5。
发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。
旋转零点调节钮“10”,让高压真空表“5”内指针指向0位置。
发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。
旋转标准调节钮“3”,让高压真空表“5”内指针指向10。
旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12,当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时,再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。