相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。1级：主要应用于电子工业，这是目前对净化工程要求的环境，集成电路要求的精度要达到亚微米。随着微电子工业技术领域的突飞猛进，对洁净室的要求越来越高。及时生产间内的例子直径仅有1微米，也会使产品寿命受到影响。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情，但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。随着产品向着高、、尖方向发展，对净化车间的依赖度也越来越高。而随着净化技术的发展，建设净化车间的技术含量也越来越高，非***人士不能也。除了在生产领域，净化工程技术还会逐渐应用于家庭、公共场合，为人们提供更洁净的生活空间
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。现在我们***的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了***人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达***高出了15%。看到这些令人心惊的数字，我们***的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，设计出能够节省的相关设备。10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。
在保证******室净化工程质量的过程中同样有着举足轻重的作用。有资料显示，某***洁净室内工作人员突然， 经查一方面是新风加热器前没有有效地过滤，该管路上有关部件已严重堵塞，由于没有维护，以致没有新风吸入，加上空调箱内一部分风机掉带，总风量又小，导致 洁净室相对密闭，体质较弱的人处在长期缺氧的室内就会出现状况。
