在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜技术初现于20世纪30年，真空镀膜加工厂商，四五十年开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。
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真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年， 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年， 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年， 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年， 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年， 报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年，薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年， 碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年， 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)； 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。
真空镀膜操作规程
1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，真空镀膜加工，工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电......1.在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。
3.在用电子枪镀膜时，真空镀膜加工厂，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃眼镜，以防X射线侵害***。
4.镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，不锈钢真空镀膜加工，及时排除***粉尘。
5.***物品要妥善保管，以防。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。
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