***医1疗行业是一个很庞大而特殊的行业,特别是******室对空气洁净度要求也很高。通常,合格的******室净化工程或者医1疗洁净室对***空气的***di要求用效率为30%的预滤器和效率为90%的亚高1效滤器结合使用进行过滤。一般情况下不需要高1效过滤器过滤,但在特殊情况下如隔离室、特定的测试和护理区域则需要高1效过滤器过滤。
洁净***室类别及等级参考：******室名称类别洁净度 特殊无菌净化***室 Ⅰ 100级（局级层流） 无菌***室 Ⅱ 1000—10000级 一般***室 Ⅲ 100000级 有菌***室 Ⅳ 一般无要求或gt;100000级 ******室 Ⅴ 无要求 ***辅助区 Ⅲ 100000级 其它用房 100000—1000000级
4.1AMC的分类及控制要求情况
AMC作为IC工厂所关心的问题于20年前***xian由日本人提出，近年来，IC生产园片直径已达φ300mm，工艺加工尺寸（线宽）已小于0.15μm，在某些加工工序及工序间园片的传送和存放环境中AMC已成为严重影响成品率的问题，已被清楚的认识到，因此，AMC的控制已由谈论转到需要实施。
对于IC生产，AMC分为A、B、C、D四类，即：
A——酸性物质，如Hcl等；
B——碱性物质，如NH3等；
C——沸点高于室温能在光洁表面冷凝的物质，主要是碳氢化合物，某些工艺加工环境中的水蒸汽亦需要考虑；
D——掺杂物质，能为园片表面吸附或与表面相互反应的物质，如***、硼、磷等。
AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要广泛多，粒子污染控制只要确定粒径及个数，但对AMC控制而言，除了受芯片线宽的缩小而变化外，并受工艺、工艺设备、工艺材料及园片传送系统等的影响，更有甚者用于某一工序的各种工艺材料（***、特种气体等）在很多情况下其微量的分子对下一工序往往可能是污染物，而园片加工工序当前已多于300多个***工序，对AMC控制指标的确定更是复杂。因此，IC生产对AMC的控制，对不同的产品、不同的工艺、不同的工序及不同的工艺材料会有不同的要求，对各种污染物质的要求当前总的说法是控制在亚pptm～1000pptm间。