1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
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真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法
随着基础工业及高新技术产品的发展，对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸，国内外在该领域与相关学科相互局势下，
表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法：
目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有误差，所以不是很准确，需要依靠经验。
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真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)； 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。
对于真空镀膜加工单片膜色不均匀产生的原因
主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。?
另外镜片被镜圈（）边缘部遮挡、镜圈（）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。?
改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。
改善对策：?
㈠?条件许可，用行星夹具；?
㈡?选用伞片平坦（R大）的机台；?
㈢?根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。?
㈣?如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。?㈤?改善镜圈（），防止遮挡。?
㈥?注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡?㈦?清洁镜圈（）?㈧?改善膜料蒸发状况。
