洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。2．静电放电引起的放电电流，可导致诸如半导体元件等***和误动作，例如将50块P-MOS电路放在塑料袋内，摇晃数次后，与非门栅极严重击穿者计39块，失效率竞达78%，这是因为半导体器件对静电放电十分灵敏。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。
赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念，凭借规范化管理及***的技术力量在食品、***、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净SC厂房、GMP厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。我们的宗旨：***！诚信！***！
风淋传递窗是洁净室的一种辅助设备，为了减少由于货物进出所带来的大量尘埃粒子，风淋传递窗经过滤器过滤后的洁净气流由可旋转喷嘴从各个方向喷射至货物上，有效而迅速清除尘埃粒子，清除后的尘埃粒子再由初、过滤器过滤后重新循环到风淋区域内。另外若系统停止运转再启动，欲达需求之洁净度，往往须耗时相当长一段时间。为了达到吹淋的较好效果，喷嘴出风口风速能达到20s以上。
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特性：耐磨、耐冲击、硬度好；防化学溶剂及酸、碱、盐介质腐面；可做成表面防滑或哑光效果。
适用范围：要求地面耐磨性好，耐一定冲击性的电子电器、机械厂。可行驶1-2吨叉车，重手推车等，尤其适用于一楼及凹凸不平之地面。
