碳化硅是由美国人艾奇逊在1891年电熔金刚石实验时，在实验室偶然发现的一种碳化物，当时误认为是金刚石的混合体，故取名金刚砂，1893年艾奇逊研究出来了工业冶炼碳化硅的方法，也就是大家常说的艾奇逊炉，一直沿用至今，以碳质材料为炉芯体的电阻炉，通电加热石英SIO2和碳的混合物生成碳化硅。碳化硅球是提高综合经济效益的一种新材料，为炼钢、铸造等行业提高竞增力带来新的机会。
1955年 理论和技术上重大突破，LELY提出生长高品质碳化概念，从此将SiC作为重要的电子材料。
1978年 六、七十年代碳化硅主要由前苏联进行研究。到1978年首采用“LELY改进技术”的晶粒提纯生长方法。
1987年～至今以CREE的研究成果建立碳化硅生产线，供应商开始提供商品化的碳化硅基。
碳化硅有黑碳化硅和绿碳化硅两个常用的基本品种，都属α-SiC。①黑碳化硅含SiC约95%，其韧性高于绿碳化硅，大多用于加工抗张强度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、铸铁和有色金属等。②绿碳化硅含SiC约97%以上，自锐性好，大多用于加工硬质合金钛合金光学玻璃，也用于珩磨汽缸套和精磨高速具。此外还有立方碳化硅，它是以特殊工艺制取的黄绿色晶体，用以制作的磨具适于轴承的超精加工，可使表面粗糙度从Ra32～0.16微米一次加工到Ra0.04～0.02微米。碳化硅是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑等原料在电阻炉内经高温冶炼而成。
磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工，质量好，层模具防锈涂层碳化硅的新价格加工条件容易控制。采用合适的磨料，加工的表面粗糙度可达到Ra0。1μm。
抛光过程应分开在两个工作地点完成，即粗磨加工地点和精抛加工地点分开，而且要注意清洗干净上一道工序残留在工件表面的砂粒。
化学抛光是材料在化学介质中让表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。该方法可以抛光形状复杂的工件，碳化硅的新价格可以同时抛光很多工件，。化学抛光得到的表面粗糙度一般为Ra10μm。
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碳化硅的用途
利用碳化硅具有耐高温，强度大，导热性能良好，抗冲击，作高温间接加热材料，如坚罐蒸馏炉。利用碳化硅的耐腐蚀。抗热冲击耐磨损。导热好的特点，用于大型高炉内衬提高了使用寿命。碳化硅硬度仅次于金刚石，具有较强的耐磨性能，其耐磨性能是铸铁．橡胶使用寿命的5—20倍，也是航空飞行跑道的理想材料之一。本厂技术力量雄厚，检测手段齐全，具有完善的科学管理及质量保证体系。该方法可以抛光形状复杂的工件，碳化硅的新价格可以同时抛光很多工件，效率高。
