线列式磁控生产线
沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。
采用***的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、***的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用具有高能效、高可靠性、低成本的优势。微电子行业领域中，其是一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气象沉积上。
本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO镀膜、薄膜太阳能电池背电极及AZO镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、AR镀膜、装饰镀膜等产业领域。
磁控溅射镀膜机的工作原理是什么？
磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。所不同的是电场方向，电压电流大小而已沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年磁控溅射产品行业经验，专注磁控溅射产品研发定制与生产，***的磁控溅射产品生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的***电话。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与原子发生碰撞电离出大量的离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，沉积在基片上。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（ E X B drift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已
沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年磁控溅射产品行业经验，专注磁控溅射产品研发定制与生产，***的磁控溅射产品生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的***电话！！！
磁控溅射镀膜设备的主要用途
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。
2.时装装饰领域的应用，比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜，可适用在手机外壳、鼠标等产品上。
3.微电子行业领域中，其是一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气象沉积上。
4.在光学领域中用途巨大，比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。
5.在机械行业加工中，其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能，能够延长物品使用周期。
自动磁控溅射系统概述
带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6"旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。专用样品台可镀制多种型号光纤产品系统主要由真空室、磁控靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。
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