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就洁净室,尤其是半导体工业洁净室而言,其负荷特点是:由于排风量大造成新风量大,故新风处理所需冷量消耗大;送风量大,输送动力消耗大,风机管道温升高;生产设备的发热量大,消耗冷量大。这三项负荷之和一般占总负荷的70%~95%。
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尽量接近洁净室,它可以就是送风口或直接连送风口,也可以接到房间的送风静压箱上;回风口均设在洁净室的下部,目的是避免出现“扬灰”现象。非单向流洁净室中都有涡流存在,不适宜用于高洁净度的洁净室中,宜用于6~9级的洁净室中。
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也可以用普通过滤器配扇形送风口,在另一侧的下部设回风口,房间的高长比一般在0.5~1之间为宜。这种洁净室也可以达到5级(100级)洁净度。洁净室的流型基本上是上述三种类型,但是实际应用时可演变出很多形式。
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