磁 控 靶
磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面
(1)对于大面积表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；
(2)当膜层材料为***时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该***的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/
常规圆形平面靶规格:
1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各类磁控靶
2.永磁靶（可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；
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高温束源炉的特点
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温度控制和均匀的基于SCR 功率输出电源实现准确的沉积速率控制，并确保高质量的，均匀的膜。
◆ 使用PID 控制器进行温度控制，控制在±1℃
◆ 自动调节模式
◆ 可调节报警条件
◆ 速率控制输入与沉积控制相兼容
加热样品台的设计原理
设计原理为：将样品槽设置在中空腔中，中空腔中通入热空气对样品槽进行加热，从而对样品进行传热加热，而随着热空气装置不断向中空腔中通入空气，中空腔中的压力会增大，从而通过泄压口向气管排气，排出的气体会通过气管到达多孔头，从而对样品容器通入热空气，一方面热空气对样品容器中的样品进行加热，另一方面还能起到空气搅拌的作用。主要用于薄膜生长和样品制备，但是也可以当作掺杂源(如Si或Be掺杂)使用。
热空气装置包括空压机、加热箱和管道，空压机通过所述管道与所述加热箱连通，加热箱通过管道与所述中空腔连通，空压机产生的空气通过管道进入到加热箱中进行加热，并经管道通入到中空腔中。
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