蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备 所镀产品图蒸发镀膜设备 所镀产品图程，形成薄膜。真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：
真空蒸镀：其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
现在有一种涂层技术已逐渐应用到手表上，工艺上讲为PaCVD,属于CVD的一种。这种技术先是应用到F1方程式车上，因为这种涂层更注重外观色泽，也叫装饰涂层。因高温会使手表变形，所以它的氧化温度只有摄氏300度，但它的硬度非常高，达到4000（维氏硬度），非常耐磨。
相对PVD工艺，PaCVD工艺应用深镀电源，无需阴极靶材，同时工件在炉膛中无需旋转，该工艺为干净、无污染、可靠和多性能的涂层工艺。并且DLC涂层非常坚硬耐磨，可以说是长时间的不变色，而且颜色也非常好看，非常符合现代的审美观。
