离子属刻蚀机的注意事项
创世威纳——***离子束刻蚀机供应商，我们为您带来以下信息。
#.在设备工作时，禁止扶、靠设备，禁止触摸高频电缆和线圈，以免发生意外
#.高频电源实际使用功率不能超过较大限制#.检查设备时，必须关机后切断电源
#. 工作场地必须保持清洁、干燥，离子束刻蚀机厂家，设备上及设备周围不得放置无关物品，特别是易1燃、易1爆物品
#.长期停放时注意防潮，离子束刻蚀机，拆除电源进线，每隔3-5天开一次机，保证反应室真空以免被污 染
#.设备停机、过夜也要保持反应室真空，如停机较长时间后再进行刻蚀工艺，需***行一次空载刻蚀，再刻蚀硅片
离子束刻蚀机
离子源的主要参数有：①离子束流强。即能够获得的有用离子束的等效电流强度，用电流单位A或mA表示。②有用离子百分比。即有用离子束占总离子束的百分比。一般来说，离子源给出的总离子束包括单电荷离子、多电荷离子、各种分子离子和杂质元素离子等的离子束。③能散度。由于离子的热运动和引出地点的不同，使得离子源给出的离子束的能量对要求的单一能量有一定离散，一般希望能散度尽量小，在的离子束应用中尤其是这样。④束的聚焦性能。以离子束的截面和张角表示。聚焦不好的离子束在传输过程中会使离子大量丢失。获得良好聚焦特性的离子束的终障碍是束中离子之间的静电排斥力，为了克服这一障碍，应尽早使离子获得较高能量。⑤离子源的效率。以离子束形式引出的工作物质占总消耗的工作物质的比例。⑥工作寿命。离子源一次安装以后使用的时间。
离子束刻蚀
利用低能量平行Ar 离子束对基片表面进行轰击，离子束刻蚀机工作原理，表面上未被掩膜覆盖部分的材料被溅射出，从而达到选择刻蚀的目的，它采用纯物理的刻蚀原理。离子束刻蚀是目前所有刻蚀方法中分辨率较高，陡真性较好的方法，它可以对所有材料进行刻蚀，例如：金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体、超导体等。
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离子束刻蚀机工作原理-创世威纳(在线咨询)-离子束刻蚀机由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司（.cn）位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前创世威纳在电子、电工产品制造设备中享有良好的声誉。创世威纳取得商盟认证，我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。创世威纳全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
