净化车间参数:换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度 冬季gt;16℃;夏季 lt;26℃;波动±2℃。湿度45-65%;GMP车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX0洁净室施工及验收规范：建设项目二：HEPA为万，10万级洁净动荡房新建，改建项目空调系统鼓风机终端这款产品。可以净化空调系统广泛应用于电子工业，精密机械，冶金，化工等工业和，制药，食品等部门。此装置由静压室，过滤器，铝合金制的扩散板等标准法兰接口，吸引人的外观，结构简单，使用可靠的。这是具有安装的过滤器的优点，过滤器或罐使用机械压缩密封装置，以确保无泄漏空气安装，密封可靠，良好的净化效果的洁净室和易于更换内的型空气出口，一般去污可以是应用。
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。1级：尘埃易使芯片失效或者稳定性下降，当金属尘埃落于集成电路上时，就可能造成短路。当空气中的酸性离子落在电路上时，可能将电路腐蚀，因此净化空调系统对微电子工业而言至关重要。此外，液晶、光纤的生产也需要1级洁净度的要求。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。设计净化系统***的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级，增加一级过滤器。现在我们***的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了***人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达***高出了15%。看到这些令人心惊的数字，我们***的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，设计出能够节省的相关设备。
