








生产工艺
粗 、中、细SiC的配方应为5:1:4。制造碳化硅原料一般选用黑色SiC,其化学成分如下:SiC 98.0%,游离C 0.5%,Fe 0.2%,游离SiO2 0.6%。由于结合方式不同,工艺过程有差异。不同结合方式的简要工艺是:
(1)氮化硅结合碳化硅:用粗、中、细碳化硅颗粒和细硅粉成型的坯体,在纯N2气体中,在1370℃产生一种以%26α-SiC为骨架和以%26α和%26β-Si3N4。为基质的氮化硅结合碳化硅。在基质中尚有少量残留硅和SiO2N2在制品中,这些组分的相对含量随制造工厂不同而异。
(2)结合碳化硅:将SiC、硅粉、炭粉按一定配比,混合、成型,在1400℃还原气氛中烧成。在大多数情况下采用埋炭烧成。在烧成过程中,产生一种以%26α-SiC为骨架,以细晶粒%26β-SiC为基质的%26β-Si3N4结合SiC砖。%26β-SiC是在烧成过程中,碳化硅供应商,细硅粉与细碳粉反应生成的,这种产品也含有少量残留硅和碳。
(3)氧氮化硅结合碳化硅:这种砖配料时,细硅粉配比要少于碳化硅。
碳化硅
碳化硅又称碳硅石,碳化硅广泛的,那么一般作为什么材料呢?简述碳化硅一般是作为什么材料的。
耐火原料中,碳化硅为应用广泛的一种。黑碳化硅是以石英砂,石油焦和硅石为主要原料,通过电阻炉高温冶炼而成。其硬度介于刚玉和金刚石之间,碳化硅批发,机械强度高于刚玉,性脆而锋利。绿碳化硅是以石油焦和硅石为主要原料,添加作为添加剂,通过电阻炉高温冶炼而成。其硬度介于刚玉和金刚石之间,机械强度高于刚玉。
可用于3—12英寸单晶硅、多晶硅、钾、石英晶体等线切割。太阳能光伏产业、半导体产业、压电晶体产业工程性加工材料。可用做炼钢的脱氧剂和铸铁***的改良剂,是硅树脂工业的主要原料。可用于有色金属冶炼工业的高温间接加热材料。所以碳化硅的运用范围是较为广泛的。
作为磨料,可用来做磨具,碳化硅的价格,如砂轮、油石、磨头、砂瓦类等。作为冶金脱氧剂和耐高温材料。碳化硅主要有四大应用领域: 功能陶瓷、耐火材料、磨料及冶金原料。高纯度的单晶,可用于制造半导体、制造碳化硅纤维。碳化硅

碳化硅的物理属性:密度。各样碳化硅晶形的颗粒密度十分近乎,普通觉得是3.20克/毫米3,其碳化硅磨料的当然堆砌密度在1.2--1.6克/毫米3其间,其高矮在于于粒度号、粒度合成和颗粒形状。硬度。碳化硅的莫氏硬度为9.2,威氏显微密硬度为3000--3300公公斤/毫米2,兰州碳化硅,努普硬度为2670—2815公公斤/毫米,在磨料中高于刚玉而仅次于金刚石、立方氮化硼和碳化硼。导热率。碳化硅制品的导热率高,热膨胀参数小巧,抗热震性高。电学属性。恒温下工业碳化硅是一种半导体,属杂质导电性。高纯度碳化硅跟着气温的升高内阻率降低,含杂质碳化硅按照其含杂质不一样,导电机能也不一样。
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