新能源汽车灯杯注塑镀膜加工-锦城镀膜-新能源汽车灯杯注塑镀膜

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

基体温度：镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力，温度可用T/Tm值来确定，如；靶材为钛，其熔点为1670℃，基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒***。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升，基体可选在250-300℃

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光学薄膜应用反应磁控溅射技术已有多年，中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

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真空镀膜之多弧离子镀 ：

电弧电流一般为几安至几百安，工作电压为10-25V，这时阴极表面的全部电流集中在一个或多个很小的部位 ， 形成明亮的阴极弧斑 ， 阴极弧斑的直径为0.01-100um， 并以高达100m/s的速度在阴极靶表面随机运动 ， 也可以利用磁场控制阴极弧斑的运动。在阴极弧斑的前方是高密度的金属等离子体， 由于电子向阳极快速移动而使阴极斑点前方出现离子堆积即形成正空间电荷 ， 从而在阴极附近形成极强的电场， 导致场电子发射以维持弧光放电。