电子束镀膜原理
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电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。产品配置：★样片数量及尺寸：1片Φ8英寸或5片Φ4英寸或伞形工件架（用户定制）★蒸发材料：金属。电子枪有直射式、环型和E型之分。电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度，可达109w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率较高。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。
电子束蒸发镀膜机的用途
电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.
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