六氟化硫制备：
以长约300mm直径25mm的镍管为反应器，将盛有硫粉的镍舟置于其中，反应管与一石英阱连接，石英阱以液态氧冷却。装置的末端与一装有新脱水的KF的铁制干燥管相连，以隔离空气中的湿气。反应温度约650℃，产物在冷阱中凝聚，其中除SF6外主要杂质是SO2F2。硫在氟气流中燃烧，生成的产物凝聚在冷阱中。随后进行纯化，使产物气化并通过10%的KOH热溶液（不用NaOH）洗涤除去其中的杂质（HF，SF2，SF4，SOF2，S2F10）。然后用P4O10干燥产物气体，并在室温下通过活性炭除去S2F10。
高纯六氟化硫的应用
六氟化硫的使用可以增加设备运行的安全性、缩小设备体积、延长设备寿命。近几年，***大力发展基础电力行业，给六氟化硫厂家带来了很大的市场机遇。
高纯六氟化硫(纯度在99.99%以上)，国内需求非常旺盛，而且附加值较高。
高纯六氟化硫主要用于半导体工业中作清洗气体。
六氟化硫的成本只有NF3的几分之一，近年来，各公司以廉价的SF6取代以往CVD工艺中作为清洗气体的NF3的新技术正被广泛研究。
该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的CVD气体成本的同时，还显示出了极i佳的环保前景，近年来用量有明显的提高。
据权i威机构预测，2010年我国将成为仅次于美国的世界第二大集成电路市场，总需求量约为500亿美元。目前国内使用高纯六氟化硫作为蚀刻气的生产线约有50条左右预计。2016年将达到700吨左右，
国内使用六氟化硫作为蚀刻气的生产线有近50条，在未来的五年预计将有20条至30条新线建成。六氟化硫分子结构呈八面体排布，键合距离小、键合能高，因此其稳定性很高，在温度不超过180℃时，它与电气结构材料的相容性和氮气相似。每年约消耗高纯六氟化硫为600吨左右。而国内高纯六氟化硫产品远远不能满足市场需求，半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口，这给高纯六氟化企业提供更多的发展机遇。
SF6气体的分子具有很好的电负性，能够捕i捉自由电子形成负离子，因此SF6气体的灭弧性能是空气的100倍，大型电力设备中大多使用SF6断路器而不是空气开关。2、熔点（℃）：-513、沸点（℃）：-64（升华）4、相对密度（水=1）：1。纯品的六氟化硫气体灭弧后能够迅速***还原，所以可以在设备中反复使用，非常适合需要频繁操作的场所。但是如果SF6气体质量不合格，杂质尤其是水分超标，出现六氟化硫微水过多的问题，在高压电弧的作用下，就会生成亚***、***等***腐蚀性产物。六氟化硫气体水分的危害非常大！
