真空镀膜设备的运用
真空镀膜设备运用于电子职业中及其广泛：有通明导电膜，在玻璃，聚酯等基体上，真空镀膜上氧化銦，薄膜，就可完成即通明又导电的功用。可用于显现电报、平面照相电极，观念效应记载资料等方面。导电加热膜，在玻璃灯基体上的局部框线真空镀膜设备已铬或镍合金，接通电源，就能够完成加热功用，用以清除因温差带来的水蒸气灯。
真空镀膜设备是一门具有开展前景的运用技能，真空镀膜设备必定系列别的技能不行取代的优良特色：不受镀膜元件的资料及现状的影响。镀膜的厚度能够操控，通常为十几分或百分之几微米：因而，真空镀膜设备被广泛运用于电子设备，地理仪器，外表等各职业。
真空PVD镀膜机涂层在中有哪些应用?
PVD涂层可提供更好的边缘保持力，因此涂层***器械仍保持清晰。对于其他设备，它们可以减少配套不锈钢部件之间的磨损，并有助于防止氧化和腐蚀。通常是四种PVD涂层。的是氮化钛（TiN），其厚度范围为0.0001至0.0002英寸，维氏硬度范围为2,400至2,600Hv，以及金色。第二种常见的涂层是铝钛氮化物（AlTiN），通常称为黑色氮化物或黑色钛涂层。它的厚度范围为0.0001至0.0002英寸，硬度范围为4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外两种涂料是氮化铬（CrN）和Alpha。CrN的厚度范围为0.0001至0.0005英寸，硬度范围为2,200至2,400Hv，银色表面处理。Alpha是一种多层涂层，其顶层具有氮化锆（ZrN）并产生银-金色。它的厚度范围为0.0001至0.0002英寸，硬度，范围为4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，润滑性和耐磨性，这种涂层可以比TiN长两到四倍。
中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点
中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。
