2.2.7热阴频溅射（三极型溅射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电，气体放电产生的离子，在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。
2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering：利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。
2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning：利用辉光放电原理，使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。
2.3物***相沉积；PVDphysicalvapordeition：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。
水晶振荡监控：利用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理工作的。但是石英监控有一个不好之处就是当膜厚增加到厚度后，振动频率不全然由于石英本身的特性使厚度与频率之间有线性关系，此时须使用新的石英振荡片。
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真空镀膜厂家 真空镀膜加工镀铝怎样镀厚
由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法如下：
①电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量，根据欧姆定律： R=pXL/S 单位面积镀铝薄膜的电阻值越小，其镀铝层的厚度越厚，反之则越薄。
电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示，单位是Q，数值越大说明镀铝层厚度越薄，一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0～2.5Q。
