UV光解催化燃烧设备设计图催化燃烧设备设计图
半导体制造工艺中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分。本着运行管理简单、技术***可靠、价格合理的原则，并结合该厂的实际情况，我公司特为其提供如下治理设计方案，以供参考。在工艺过程中，这些溶剂大部分通过挥发成为废气排放。目前，有机废气排放处理措施采用大风量低浓度，其处理一般采用吸附浓缩技术、等离子光解技术、或UV光解技术等等。
UV光解净化器半导体制造行业废气处理工艺：
半导体制造行业废气预处理设备（根据具体项目及废气源实际工况，可能涉及到粉尘去除、水气分离、高温降温处理、油膏油脂去除、酸碱水雾去除等相应的预处理措施）等离子UV光解除臭废气净化器高排。
等离子光解废气分解除臭净化器工作原理
本设备是等离子分解废气净化器 UV光解除臭废气净化器两种设备的结合，综合采用了等离子废气净化器和紫外光触媒除臭废气净化器两种设备的优点组合而成，利用等离子分解技术和UV紫外光解技术相结合，对废气和臭气进行协同净化处理！
有机肥厂在发酵工艺过程中会产生大量的恶臭气体，畜禽粪便产生的恶臭，通常由于发酵车间面积比较大，而且有翻刨机来回翻刨物料，但是臭气收集气量大，浓度低的特点。除此之外,在设计安装及使用中还应注意以下几方面：设计时要考虑消除静电。有机肥发酵车间产生的臭气成份复杂，主要是氨、含硫化合物、胺类和一些低级脂肪酸类等化学物质。NH3和H2S是臭气中*主要的成份，具有强烈的刺鼻气味，对人的身体健康和大气造成严重的污染问题。
针对有机肥厂恶臭气体治理的状况，经过兆星环保技术人员的不断创新，已经推出了UV光解除臭技术，此技术利用高能UV紫外线来裂解和氧化恶臭气体，能在短时间内的除去恶臭气味；而且具有占地面积小、无噪声、设备运行简单等特点，是值得推荐的消除恶臭气味***技术。半导体制造工艺中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分。
除尘器催化燃烧设备设计图催化燃烧设备设计图
滤筒除尘器的除尘进程：
1、捕集别离进程
①捕集推移期间。本质是粉尘的浓缩期间。均匀混合或悬浮在运载介质中的粉尘，进入除尘器的除尘空间。因为受外力的效果，将粉尘推移到别离界面，随粉尘向别离界面推移，浓度越来越大，为固—气别离进一步作好预备。
②别离期间。煤磨袋收尘器技术、工艺、装备的发展在很大程度上，主导了煤粉制备系统工艺的发展进步。当高浓度的尘流流向别离界面今后，存在两种效果机理：其一，运载介质运载粉尘的才能逐渐到达极限状况，在粉尘悬浮和沉降趋势上，以沉降为主，并经过粉尘沉降，使之从运载介质中别离出来；其二，在高浓度尘流中，粉尘颗粒的分散与凝集趋势，以凝集为主，颗粒之间能够互相凝集，也可在本质界面上凝集并吸附。
2、排尘进程经过别离界面今后，己别离的粉尘经过排尘口排出的进程。
3、排气进程已除尘后相对净化的气流从排气口排出的进程。
