真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。
物***相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
真空镀膜(包括物***相沉积和化学气相沉积等)就是通过各种手段把被镀物质转换为气态，在带钢表面形成薄膜镀层。理论上所有的金属、非金属、有机物都能通过这个方式形成镀层。
这种技术可以优化组合形成多工艺、具有很高灵活性的复合镀膜工艺，适应各种性能要求。因此，这种新技术的研发和实施将是钢铁企业表面技术和产品应对挑战的超佳战略。
链条隧道式连续传送机构，是在传统板带表面镀膜机中的传递机构基础上发展起来的，对于真空镀膜装备制造企业来说，生产没有任何困难，市场上已有的立体分散件连续镀膜机采用的均是此类机型，国内有数家企业为此还申请专利。为链条隧道式传送机构结构设计图，其传递过程为，公转盘A带动柔性金属材料钢带B公转，自转轴的轴套D焊接在柔性钢带上，以机械机构固定在公转盘上，同时用有内齿的固定圆盘F齿合自转轴C上的齿轮E，以保证其自转。柔性金属材料钢带B在G处能够自由断开，并做直线运动从内齿固定圆盘F的H开口处进入下一个真空镀膜室的工件架上。