沈阳鹏程真空技术有限责任公司是由集科、工、技、贸为一体的高新技术企业。公司业务部主要分为太阳能发电领域事业部和科学仪器事业部两大部门。太阳能发电领域事业部以致力于光伏发电系统集成研究、光伏设备研发生产为主导。鹏程真空光伏部与国内外多所高校、电力设计研究院、业内企业及相关生产企业建立了战略合作伙伴关系......
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溅射镀膜
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。溅射方法很多，主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。
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