ZF300热蒸发镀膜机
ZF300热蒸发镀膜机是专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。样品被裂解后直接进入GC毛细管，避免了过程污染，保证了极低的死体积。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的真空室结构。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。
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300C有机无机联合蒸发
主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
***真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ，
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
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有机热蒸发镀膜机介绍
1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa，漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套，配有大挡板和16套小挡板，手动控制，开关方便快捷，每个小挡板挡两块30*30mm样片
3. 蒸发源共14套，其中10套有机蒸发源，4套金属蒸发源。控温精度±1℃，可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能
4. 金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源，通过铜电极连接，两端可夹钨绞丝或者钽舟，钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料，钽舟可以蒸镀粉末状材料，蒸发源采用陶瓷全密封，避免交叉污染
5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源，有机源温度为室温-500度，可以根据材料及用户需求自行调节
6. 样品台具有旋转、升降功能，可在线更换掩膜板一次，可同时装载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板，并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个***，使机械手推拉小挡板，样品与蒸发源之间的间距为200-300mm
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