




?真空镀膜加工真空镀膜厂
真空镀膜操作规程
1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,必须先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电......1.在真空镀膜机运转正常情况下,开动真空镀膜机时,必须先开水管,工作中应随时注意水压。
2.在离子轰击和蒸发时,应特别注意高压电线接头,不得触动,以防触电。
3.在用电子枪镀膜时,应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃铅玻璃,观察时应戴上铅玻璃眼镜,以防X射线侵害***。
4.镀制多层介质膜的镀膜间,应安装通风吸尘装置,及时排除***粉尘。
5.***物品要妥善保管,以防。
6.酸洗夹具应在通风装置内进行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或碱洗槽中时,应轻拿轻放,不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8.工作完毕应断电、断水。

真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove;Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday;Conn)。 1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde;Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer;Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD); 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。
真空电镀原理
电镀厂需要一个向电镀槽供电的低压大电流电源以及由电镀液、待镀零件(阴极)和阳极构成的电解装置。其中电镀液成分视镀层不同而不同,但均含有提供金属离子的主盐,能络合主盐中金属离子形成络合物的络合剂,用于稳定溶液酸碱度的缓冲剂,阳极活化剂和特殊添加物(如光亮剂、晶粒细化剂、整平剂、润湿剂、应力消除剂和抑雾剂等)。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电极反应还原成金属原子,并在阴极上进行金属沉积的过程。因此,这是一个包括液相传质、电化学反应和电结晶等步骤的金属电沉积过程。