选择X荧光光谱镀层检测仪的四个理由:
1、无损检测
镀层工艺的高要求,让楔切法、光截法等传统的***性检测方法越来越不适用,紧固件测厚仪,市场上迫切需要一种快速、准确、无损的检测方法,而X射线荧光光谱法无非是excellent镀层无损检测方法。
2、强化品质管控
X荧光光谱镀层检测仪可以准确检测镀层的金属含量及厚度等数据,这是做好电镀品质管控的前提。
3、提升生产力
传统的检测技术,既耗时又耗人力,而X荧光光谱镀层检测仪可以很大程度上解放劳动力,且检测速度快、精度高,这对提高电镀企业生产力、节约成本有很大帮助,从而带来更多的经济效益。
4、提升市场竞争力
X荧光光谱镀层检测仪不但可以帮助电镀企业提升劳动生产力,也可以帮助电镀企业在行业里保持excellent的竞争优势。






薄膜是指在基板的垂直方向上所堆积的1~104的原子层或分子层。在此方向上,薄膜具有微观结构。
理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离。由于薄膜仅在厚度方向是微观的,其他的两维方向具有宏观大小。所以,表示薄膜的形状,一定要用宏观方法,即采用长、宽、厚的方法。因此,膜厚既是一个宏观概念,又是微观上的实体线度。
由于实际上存在的表面是不平整和连续的,而且薄膜内部还可能存在着***、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,测厚仪,要严格地定义和测量薄膜的厚度实际上是比较困难的。膜厚的定义应根据测量的方法和目的来决定。
经典模型认为物质的表面并不是一个抽象的几何概念,而是由刚性球的原子(分子)紧密排列而成,是实际存在的一个物理概念。
形状膜厚:dT是***接近于直观形式的膜厚,通常以um为单位。dT只与表面原子(分子)有关,并且包含着薄膜内部结构的影响;
质量膜厚:dM反映了薄膜中包含物质的多少,首饰电镀测厚仪,通常以μg/cm2为单位,它消除了薄膜内部结构的影响(如缺陷、***、变形等);
物性膜厚:dP在实际使用上较有用,而且比较容易测量,它与薄膜内部结构和外部结构无直接关系,主要取决于薄膜的性质(如电阻率、透射率等)。


同时具有以下特点
快速:1分钟就可以测定样品镀层的厚度,并达到测量精度要求。
方便:X荧光光谱仪部分机型采用进口国际上***的电制冷半导体探测器,能量分辨率更优于135eV,测试精度更高。并且不用液氮制冷,不用定期补充液氮,操作使用更加方便,并且运行成本比同类的其他产品更低。
无损:测试前后,样品无任何形式的变化。
直观:实时谱图,PCB镀层测厚仪,可直观显示元素含量。
测试范围广:X荧光光谱仪,是一种物理分析方法,其分析与样品的化学结合状态无关。对在化学性质上属同一族的元素也能进行分析,抽真空可以测试从Na到U。
可靠性高:由于测试过程无人为干扰因素,仪器自身分析精度、重复性与稳定性很高。所以,其测量的可靠性更高。
满足不同需求:测试软件为WINDOWS操作系统软件,操作方便、功能强大,软件可监控仪器状态,设定仪器参数,并就有多种***的分析方法,工作曲线制作方法灵活多样,方便满足不同客户不同样品的测试需要。
性价比高:相比化学分析类仪器,X荧光光谱仪在总体使用成本上有优势的,可以让更多的企业和厂家接受。
简易:对人员技术要求较低,操作简单方便,并且维护简单方便。
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