蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
较早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工。
显影：在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通常指在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。
批量生产前没有做好前置化验，没做显影点测试，则可能因为温度过低，显影液浓度不够，或者速度过快而造成显影不净。
显影压力不够，显影槽喷嘴喷液压力不够也可以使得显影不彻底。
如果显影完全了，但仅仅是有膜残留，则需要检查水洗段喷管是否堵塞，从而造成压力不够，水洗不完全。
菲林颜色过浅，底片深色遮盖部分被zhi微弱紫外线照射，发生过微弱的聚合反应。
