光学镀膜材料真空应用领域
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。因此，这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。
今天至成真空小编，就为大家详细的介绍一下DLC真空镀膜机的运用领域和大概分哪些种类，这样能帮助大家对DLC真空镀膜机有一个全新的认识。
金刚石膜(DLC)真空镀膜设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。
DLC镀膜设备是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，蒸发DLC镀膜设备而在其中配装蒸发装置和磁控装置，蒸发DLC镀膜设备可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。DLC镀膜设备作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。DLC镀膜设备技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
光学镀膜机的镀膜工艺原理
光学镀膜工艺，已经普及到各行各业，光学薄膜在我们的生活中无处不在，更是被大众高度认可，据统计目前光学镀膜机材料常用品种已达60余种，而且其品种、应用功能还在不断被开发。光学镀膜工艺直接影响这大家的生活习惯，已是人们生活中不可或缺的一部分。
从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用广泛，和生活息息相关，比喻平时戴的眼镜、各式家电用品，数码相机，或者是上的防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工，干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。
AF光学镀膜机
装饰性：无论对于手机等数码产品，还是电器、卫浴等有相同装饰性要求的产品，通过底层镀制颜色膜和透明介质多层膜实现多种色彩、色调和金属光泽，并能配合丝印、热转印、镭雕和拉丝工艺，得到多种色调的炫彩光泽，加强条纹和图案的立体视觉。
膜层系列：AF防指印膜层、颜色膜 AF：品质：擦伤测试及水滴角指标：初始水滴角115-120度，擦伤测试（#0000钢丝绒、1KG压力、10*10MM摩擦接触面积、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、摩擦次数2000次）后，滴角108-116度。表面硬度以日本旭硝子玻璃钢化盖板为例，9HMax.铅笔硬度。