沈阳鹏程真空技术公司-电阻热蒸发真空镀膜机销售

钙钛矿镀膜机介绍

主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，电阻热蒸发真空镀膜机，防止蒸发源被污染。

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有机热蒸发镀膜机介绍

技术指标：

1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa，漏率为关机12小时≤5pa

2. 真空腔内配有集约样品台一套，配有大挡板和16套小挡板，手动控制，开关方便快捷，每个小挡板挡两块30*30mm样片

3. 蒸发源共14套，其中10套有机蒸发源，4套金属蒸发源。控温精度±1℃，电阻热蒸发真空镀膜机生产厂家，可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能

4. 金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源，通过铜电极连接，两端可夹钨绞丝或者钽舟，钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料，电阻热蒸发真空镀膜机销售，钽舟可以蒸镀粉末状材料，蒸发源采用陶瓷全密封，避免交叉污染

5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源，有机源温度为室温-500度，可以根据材料及用户需求自行调节

6. 样品台具有旋转、升降功能，可在线更换掩膜板一次，可同时装载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板，并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个***，使机械手推拉小挡板，电阻热蒸发真空镀膜机报价，样品与蒸发源之间的间距为200-300mm

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钙钛矿镀膜设备

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设备用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

设备组成：

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。

2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；

3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套

4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；

5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。

6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?