经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻:一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻,指通过***制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
原因可能有如下几个方面:
1,菲林颜色过浅,底片深色遮盖部分被zhi微弱紫外线照射,发生过微弱的聚合反应。
2,如果用干膜的,那么可能膜过厚,如果用的液态感光油墨,则可能油墨厚度没调整好,或者涂布机刀没调整好。
3,批量生产前没有做好前置化验,没做显影点测试,则可能因为温度过低,显影液浓度不够,或者速度过快而造成显影不净。
可以这样认为:光圈(值)大小其实就是那个小圆窗户开多大,快门(速度)就是窗户打开多久。假设窗户只打开1/4,时间为4秒钟可以正确***的话,很显然,窗户打开一半,时间2秒钟也能让底片正确***,因为1/4*4=1/2*2=1,进光量都是一样多。同样的,如果窗户全开,***时间就只需要1秒了。 假若一个镜头光圈全开为F4,用摄影行话来说,光圈F4快门速度1秒为正确***值,那F5.6和2秒以及F8和4秒也同样能得到准确***的图片。 重要结论:一张正确***的图片可以有N种不同的光圈和快门速度组合。