等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、***封装、功率半导体等领域可提供***装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。
目的：除去工件表面的防锈油、润滑油、乳化液及工作人员分泌的汗渍油脂等。
成份组成：、碳酸钠等碱性物质及十二***磺酸钠等。
脱脂不完全会影响后面涂布工序中保护膜与工件的接合力，以致在蚀刻过程中保护膜脱落造成工件的损坏。
涂布感光油墨。
可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是很高，只要能保证涂层能够在蚀刻时对产品需保护部位得到充分的保护。
此工序和制作网板中的涂布工序差不多，只是制作网板是在网砂上涂感光油墨，而金属蚀刻是直接在工件表面涂布
热风预烘干（30-40℃，10-15分）
目的只是防止***时感光油墨粘住菲霖。要在暗室中进行操作。
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高压灯、碘灯、金属卤素灯。
时间：二十秒左右，抽真空；根据工件的精度要求适当调整***时间。精度要求越高，***时间要适当缩短
显影
对于水光油墨，可采用1%碳酸钠水溶液或直接用清水，温度25-30℃，手工显影或喷射显影。
对于油光油墨，可采用进行手工显影或喷射显影。
蚀刻
1、正式蚀刻
把坚好膜的铜材放在入料口的合适位置，按下蚀刻开关，蚀刻机就开始对铜材进行蚀刻， 根据要求控制好蚀刻机传输速度，从而控制蚀刻深度。
蚀刻略浅，只需蚀刻出图案花纹即可，之后由盖油工程师对蚀刻后的铜材进行精准***的盖油，以保护底纹，露出需打穿的部分，烘干、再进一次蚀刻机，打穿成型。
2、褪膜
使用专用的退膜机进行褪膜处理，褪膜后用清水冲洗干净，再用烤箱烘干。
3、打磨
***打磨抛光人员对卡片纯手工抛光打磨，要求一次一张，打磨后边缘无任何水口位残留毛刺，摸上去手感平滑顺畅。
