




钙钛矿镀膜设备
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容,希望对同行业的朋友有所帮助!
设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成:
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、真空度:镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa;
3、蒸发源系统:有机源蒸发源4个,无机蒸发源2套
4、样品架系统:样品大小为Φ150mm的样品,旋转速度为:0~30转/分;
5、样品在镀膜过程中,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
