ZF450型全自动热蒸发镀膜机
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***电阻器热蒸发镀膜供货商，我们为您提供下列信息内容。
选用3～8组蒸发源可适配金属材料、有机化合物蒸发。Parylene独特的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点多方位涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，起到非常好的防锈、耐盐雾腐蚀的作用。广泛运用于高等院校材料、物理学、有机化学、电子器件、电力能源等有关课程及其科研单位制取高品质作用塑料薄膜、蒸镀电级等，非常合适OPV/钙钛矿/无机物太阳能薄膜充电电池、半导体材料、有机化学EL、OLED显示信息科学研究与开发设计行业。
1.前开关门真空内腔，便捷拿取基片、拆换蒸发舟、加上蒸发材料及其真空室的平时维护***；
2.1200L/s分子泵做为主抽泵，真空限达到5×10-5Pa；
另可选择進口磁悬浮分子泵或是低温泵做为主抽泵，真空限达到 3×10-6Pa；
3. 组水冷器蒸发电级，可长期平稳工作中，适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案，
源间有避免交叉式环境污染挡板；
4. 真空蒸发开关电源，恒流电源/恒输出功率操纵。可保持一键启动和终止的自动控制系统作用；
5.较大120mm基片/15～25mm ITO/FTO夹层玻璃25片，可订制一体化高精密刻蚀掩膜板；
6.基片台自转，转速比0～25rpm持续可调式；
7. 衬底可挑选加温或水冷散热，源基距较大350mm；
8. 选用進口膜厚监控器仪在线监控和操纵蒸发速度、膜厚；
9. 可堆积金属材料（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属材料、化学物质（MoO3, LiF等）
及有机化合物材料， 可扩展堆积单面膜、双层膜及混和膜；
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钙钛矿镀膜机的特点有哪些？
1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。
2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度为≤180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
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双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
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