




CVD真空镀膜厂家的TAC膜层特点及应用:本公司为客户提供质高价优的镀膜服务,镀制的主要膜层有TAC(金刚石膜),塑胶真空镀膜加工厂,这种膜层有以下性能:
TAC膜层的特点:
1. TAC(类金刚石)膜层有很高的硬度(HV6000),优良的耐磨性能,真空镀膜加工价格,摩擦系数极低(低至0.08),膜层厚度1-2um
2. 具有优异的耐蚀性,能耐各种酸、碱等腐蚀。
3. 对金属、塑料、橡胶、陶瓷等均有良好的抗粘结和防咬合性能
4. 表面粗糙度低(可达镜面级)
5. 与基体结合力很强,可以在各种钢铁、钛合金、铝合金、硬质合金等材料上沉积
真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,真空镀膜加工,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜加工与电镀全是两回事儿。真空镀膜加工是把物体放入真空室里,在真空状态下把所要镀的金属加热蒸发,然后被镀物体在里面转动把金属颗粒吸附在被镀物体表面,真空镀膜加工厂商,镀后为了不使金属颗粒氧化在表面再喷透明面油从而增加结合力和隔离空气。一般来说真空镀膜加工不能镀的材料是那些表面柔软易变形的材料,还有就是不易干燥的材料。电镀一般是ABS塑料才可以处理成导电体再电镀。
真空镀膜加工技术的一般术语及工艺
2.1.8激光束蒸发:通过激光束加热蒸发材料的蒸发。
2.1.9间接加热的蒸发:在加热装置(例如小舟形蒸发器,坩埚,灯丝,加热板,加热棒,螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。
2.1.10闪蒸:将很少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。
2.2真空溅射:在真空中,惰性气体离子从靶表面上轰击出原子(分子)或原子团的过程。
2.2.1反应性真空溅射:通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。
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