




电子束原理介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售电子束产品,我们为您分析该产品的以下信息。
电子在电场中会受力而得到加速、提高能量,产生电子束。电子束焊原理一台电子增速器,注入的电子能量为20GeV(1GeV=109 eV,也就是10亿电子伏特),相应的电子速度为0.99999999979倍光速。配套相应蒸发坩埚内衬,以适应不同材料,确保蒸发速率稳定性,重复性。电子经增速器加速后,能量可达到100GeV,电子速度达到0.999999999987倍的光速。这说明,电子在这台增速器里速度几乎没有增加,而能量增加了4倍。
电子束蒸发镀膜机产品介绍
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产品配置:
★样片数量及尺寸: 1片Φ8英寸或5片Φ4英寸或伞形工件架(用户定制)
★蒸发材料:金属;非金属;化合物等薄膜材料。
★蒸发腔体:高真空系统。
★蒸发不均匀性:≤±3%-±5%
★工件架:可旋转,转速可调
★加热:常规加热
★电子枪:E型,带XY偏转扫描
★电子枪坩埚:6穴,17cc
★膜厚监控功能:石英晶控膜厚在线监测与终点控制
★清洗功能:可选配离子源清洗
★器件一次成型复合实验系统:通过复合mask系统与样品对准系统,一次完成器件的多个工艺步骤
★检测与控制光学特性的功能:可选配光控仪
★操作模式:全自动 半自动控制
电子束蒸发镀膜机各部件介绍
1、烘烤照明系统1套。烘烤温度:室温-150℃。(在10-4Pa时,真空室内残余气体的组合,水蒸汽约占 90%以上,因此在该压强下进行蒸镀,实际上相当于在水蒸汽中制膜,为了减少水份,提高真空室温,使水分解,是提高膜层质量的一种可行办法)。
2、电控柜:标准电控柜,组装总控制电源、真空系统控制(分子泵、机械泵电源、挡板等)、数显真空计等。柜底下配脚轮,方便移动、***。
3、手动按钮式操作,备留机电转换及控制接口,方便实验记录.
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电子束镀膜的溅射方式
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溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面,通过动能传输,令靶材的分子(原子)有足够的能量从靶材表面逸出,在产品表面凝聚形成薄膜。
用溅射的方法制镀的薄膜附着性强,薄膜的纯度高,可以同时溅射多种不同成分的材料,但是对靶材的要求高,不能象电子枪一样节约资源。
目前运用较多的有磁控溅射,磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场,将电子约束在阴极靶材表面附近,提高电离效率。它是操作比较简单的一种,所以运用非常广。
