HEDP是一种有机类阻垢缓蚀剂，能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物，能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用，在高pH下仍很稳定，不易水解，一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机(盐)好。EDTMPS是含氮有机多元，属阴极型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3～5倍。能与水混溶，***无污染，化学稳定性及耐温性好，在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被***。EDTMPS对***钙、***钡垢的阻垢效果好。
EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力，与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中。EDTMPA为高纯***且***，在电子行业可作为半导体芯片的清洗剂用于制造集成电路;在行业作性元素的携带剂，用于检查和***;EDTMPA的螯合能力远超过EDTA和DTPA，几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。有机盐阻垢剂ATMP·Na4是ATMP的中性钠盐，可阻止水中成垢盐类形成水垢，特别是碳酸钙垢的形成。 ATMP·Na4适用于火力发电厂、炼油厂的循环冷却水、油田回注水系统。ATMP·Na4对于其他一些添加剂也有很好的相容性。ATMP·Na4特别适用于中性到酸性配方中，无氨味产生。
RO阻垢剂反渗透阻垢剂、分散剂是一种阻垢分散剂，特别适用于反渗透给水中钡、锶含量高，***钡、***锶结垢倾向严重的反渗透系统。它可以在结垢物质很宽的浓度范围内有效地阻止结垢的发生。在反渗透系统(RO)、纳滤系统(NF)或超滤系统(UF)中使用反渗透阻垢剂。反渗透膜结垢是制约RO 在水处理推广应用的关键因素。膜系统一旦大面积结垢,清洗膜和更换反渗透膜是解决办法。