多功能真空镀膜机是怎么构成的？
多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备，是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶，设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色，一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处，合适镀各种复合膜。
多功能真空镀膜机--磁控、中频、多弧离子镀膜具体介绍：
①蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能，合适量产，适应性强。
②磁控溅射与多弧离子镀的混合运用:多弧能够进步炮击清洗质量，添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快）。
③多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用:中频靶更安稳（如Al），离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2，一起镀多层不一样原料簿膜。
④射频、直流、中频、柱弧的混合运用：射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2
⑤圆柱弧、中频、多弧的混合运用:柱弧确保高离化率的一起，削减大颗粒堆积的份额，到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。多功能真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。
中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术介绍
很多人不知道，磁控溅射真空镀膜机镀膜技术也分类型的，镀的产品不一样，使用的磁控溅射技术也是有差别，今天至成真空小编为大将讲解一下中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术，希望能帮到大家。
中频磁控溅射真空镀膜机镀膜技术分靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入Ar气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。
PVD硬质涂层真空镀膜机应用介绍及它的系统特点
PVD超硬质涂层（工模具）真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的***专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。由于配有***的电器控制系统及稳定的工艺界面,针对各种金属进行表面镀膜.例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业（卫生洁具、门把手、拉手、门锁等）、建筑行业（不锈钢板、楼梯扶手、立柱等）、精密模具业（冲棒标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头）、汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）以及钢笔、眼镜等等，使其表面得到既美观又耐磨的功能性磨层.主要镀制的膜层有:离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬以及RP镀等超硬功能性金属膜，经离子镀膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蚀和美化的作用。可镀制颜色有钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列共十多种色系。
真空离子镀膜设备的操作步骤是什么
在操作真空离子镀膜设备时，请参阅设备规格、仪表板指针显示和每个旋钮下的标记说明：检查真空离子镀膜设备操作控制开关处于“关闭”位置。打开主电源开关为设备供电。按“复位”和钮复位整台机器的控制电源。
启动水冷却系统，连接真空离子镀膜设备的冷却水。操作台上的控制方式选择开关是以“自动齿轮”保持泵VP1和VP2启动，助推器泵BP和扩压泵DP启动预热，时间约60分钟。将全缠绕铝线送丝盘放入轴销，然后安装在支撑板上。
铝线通过送丝轮和管道通到蒸发船的顶部，调整弹簧的张力，使压轮不打滑地压紧铝丝，使铝线顺利运输。用石墨纸包裹蒸发舟的两端，然后将其压入电极。关闭蒸发罐挡板。基材卷筒安装在卸料轴上，空卷筒安装在收集器轴上，然后放卷座和卷轴座分别固定。调整基材和筒芯的位置，并将筒芯泵紧。
在触摸屏主控制屏上设置真空离子镀膜设备的卷绕参数，包括直径、宽度、张力、停止直径、卷绕速度、卷绕张力等。根据卷绕流程图，从放电轴绘制基片，并将其缠绕到采集轴，并在操作过程中对薄膜进行紧固和对齐。按下操作台上的“收卷”按钮，收卷系统按设定值进入零速张力保持状态，收卷系统将收卷物料。