pvd真空镀膜加工厂-东莞泰坦金属制品-pvd真空镀膜

　　真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，pvd真空镀膜公司，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，pvd真空镀膜报价，通常称为干式镀膜技术。

众所周知，在某些材料的表面上，pvd真空镀膜，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。

PVD真空镀膜过程的均匀性

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，pvd真空镀膜加工厂，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

真空镀膜加工技术的一般术语及工艺

2.1.8激光束蒸发：通过激光束加热蒸发材料的蒸发。

2.1.9间接加热的蒸发：在加热装置(例如小舟形蒸发器，坩埚，灯丝，加热板，加热棒，螺旋线圈等)中使蒸发材料获得蒸发所须的热量并通过热传导或热辐射方式传递给蒸发材料的蒸发。

2.1.10闪蒸：将很少量的蒸发材料间断地做瞬时的蒸发。

2.2真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。

2.2.1反应性真空溅射：通过与气体的反应获得理想化学成分的膜层材料的真空溅射。