镀膜机厂家介绍光学监控法的特点
真空镀膜机膜厚的监控方法较多，目前较新的方法是光学监控法，其相对于的传统的石英晶体微量平衡法来说，光学监控法更具有准确性，因为传统的测试的方法很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成较大的误差。下面镀膜机厂家就来为大家介绍一些光学监控法的特点。
光学监控法可以有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长，光学监控法非常适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。能够更准确地控制膜层厚度 。
上述所说就是镀膜机厂家为大家介绍的光学监控法的一些特点，而从中我们不难看出光学监控相比传统的监控法来说是一种更适合对真空镀膜机膜厚的监测方法。
浅谈离子镀膜机应用的几个特点
镀层附着性能好
普通真空镀膜时，蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀，在工件表面与镀层之间，形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是说比一根头发丝的百分之一还要小。两者间可以说几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。如果说普通真空镀膜的粒子相当于一个气喘吁吁的长跑运动员，那么离子镀的粒子则好似乘坐了高速火箭的乘客，当其高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生。可见附着得多么牢固啊！
磁控溅射镀膜设备溅射方式
清洗过程简化
现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果较好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。
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