20w光纤激光打标机
半导体型
其发光源采用的是半导体列阵,所以光转换效率非常高,达到40%以上;热耗损低,无需单独配备冷却系统;耗电少,1800W/H左右。整机性能非常稳定,属于免维护产品,整机免维护时间可达到150000小时,相当于10年免维护,没有灯的更换,无耗材。这是一代人造的测距成果,为以后更远距离、更的人造测距打下了基础。
基础配置及技术规格:
型号项目 CCC-DP50
激光器 CCC-DP50(相干激光模块)
扫描振镜 YAG-16mm镜片
聚焦透镜 1064-110
Q开关 英国Gooch amp; Housego
控制软件***激光标记软件for Windows98/2000/XP
冷却系统 水冷
工作方式 静态标记字体 50种以上的标准字体,并特殊设计手写字体输入功能
输入电源 220V AC 50Hz
激光输出功率 0-50W
激光打标机
打标频率0.5-50KHZ
整机功率 1500W
打标线宽 0.02mm
标刻深度 ≤3毫米(视材料可调)标刻速度 ≤7000㎜/s
小字符 0.2mm
打标范围 标准:110mm×110mm备 注 精密三维升降操作台
1“6403”高能钕玻璃激光系统 1964年启动,后从技术上判定热效应是根本性技术障碍,于1976年下马。这一项目对发展高能激光技术有历史贡献是不可忽视的,它使我国激光技术的水平上了一个台阶。其成果主要表现在:
(1)建成了具有工程规模的大口径(120毫米)振荡—放大型激光系统,大输出能量达32万焦耳;改善光束质量后达3万焦耳。
(2)实现了系统技术集成,成功地进行了实验,室内10米处击穿80毫米铝靶,室外2公里距离击穿0.2毫米铝耙,并系统地研究了强激光辐射的生物效应和材料***机理。
(3)一次揭示了强光对激光系统本身的光损伤现象和机制。
(4)一次深入和理解激光光束质量的重要性和物理内涵,采用了一系列提高光束质量 的创新性技术,如万焦耳级非稳腔激光器、片状激光器、振荡—扫瞄放大式激光系统、尖劈法光束质量诊断等。
(5)激光元器件和支撑技术有了突破性提高,如低吸收高均匀性钕玻璃熔炼工艺、高能脉冲氙气、高强度介质膜、大口径(1.2米)光学精密加工等。
(6)培养和造就 了一批技术骨干***。
改革开放以来,激光技术获得了发展的机遇。20多年来,面向应用,面向世界,面向未来,激光科技事业取得了的进步,涌现出一批水平的成果,为迈向21世纪 打下了坚实的基础。
1980年5月,分别在上海、北京举行了一次国际激光会议,与会代表218人(国外66人),宣读113篇报告(国外65篇),同志亲切接见了与会中外代表。紫外激光打标机紫外激光打标机配置深紫外激光器、进口高速扫描振镜系统等。1983年在广州和1986年在厦门又举行了第二次、第三次国际会议,改变了我国的激光技术多年来封闭运转的局面,开始走向世界。一大批年轻科技人才出国进修,其中相当一部分优人才学成归国。