小方分子提纯设备金属蒸发镀膜机厂家
小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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钙钛矿镀膜设备
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设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。
2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；
3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套
4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。
6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?
钙钛矿蒸发镀膜机的特点
1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。lt;/spangt;
2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度可达180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
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