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北京赛米莱德贸易有限公司

普通会员7
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:况经理
手机号码:15201255285
公司官网:www.semild.com
企业地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
本企业已通过工商资料核验!
企业概况

北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区,毗邻中芯国际,京东方,RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体,LED,TFT-LCD,太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体,太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的**解决方案......

NR9 3000P光刻胶厂家来电咨询

产品编号:1899157343                    更新时间:2020-09-20
价格: 来电议定
 北京赛米莱德贸易有限公司

北京赛米莱德贸易有限公司

  • 主营业务:光刻胶
  • 公司官网:www.semild.com
  • 公司地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208

联系人名片:

况经理 15201255285

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产品详情






芯片光刻的流程详解(一)

在集成电路的制造过程中,有一个重要的环节——光刻,正因为有了它,我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前,1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照实验以后,开始试图复一种刻蚀在油纸上的印痕(图案),他将油纸放在一块玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。经过2、3小时的日晒,透光部分的沥青明显变硬,而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。通过用强酸刻蚀玻璃板,Niepce在1827年制作了一个d’Amboise主教的雕板相的产品。“10次方的光刻胶经过多次烘烤,由于达不到客户需求的防静电作用,不能应用到新一代窄边框等面板上。

Niepce的发明100多年后,即第二次***期间才应用于制作印刷电路板,即在塑料板上制作铜线路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶体管,当时分辨率5um,如今除可见光光刻之外,更出现了X-ray和荷电粒子刻划等更高分辨率方法。8刻蚀就是将涂胶前所垫基的薄膜中没有被光刻胶覆盖和保护的那部分进行腐蚀掉,达到将光刻胶上的图形转移到下层材料的目的。


NR77-25000P,RD8


品牌

产地

型号

厚度

***

应用

加工

特性

Futurrex

美国

NR71-1000PY

0.7μm~2.1μm

高温耐受

用于i线***的负胶

LEDOLED、

显示器、

MEMS、

封装、

生物芯片等

金属和介电

质上图案化,

不必使用RIE

加工器件的永

组成

(OLED显示

器上的间隔

区)凸点、

互连、空中

连接微通道

显影时形成光刻胶倒

梯形结构

厚度范围:

0.5~20.0 μm

i、g和h线***波长

对生产效率的影响:

金属和介电质图案化

时省去干法刻蚀加工

不需要双层胶技术

NR71-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR71-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9-100PY

粘度增强

NR9-1500PY

NR9-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR9-6000PY

NR71G-1000PY

负胶对 g、h线波长的灵敏度

NR71G-1500PY

NR71G-3000PY

NR71G-6000PY

NR9G-100PY

0.7μm~2.1μm

NR9G-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR9G-3000PY

NR9G-6000PY

耐热温度

PR1-500A

0.4μm~0.9μm




光刻胶

光刻胶组分及功能

光引发剂

光引发剂吸收光能(辐射能)后经激发生成活性中间体,并进一步引发聚合反应或其他化学反应,是光刻胶的关键组分,对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。

树脂

光刻胶的基本骨架,是其中占比较大的组分,主要决定***后光刻胶的基本性能,包括硬度、柔韧性、附着力、***前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。

溶剂

溶解各组分,是后续聚合反应的介质,另外可调节成膜。

单体

含有可聚合官能团的小分子,也称之为活性稀释剂,一般参加光固化反应,可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。









光增感剂

是引发助剂,能吸收光能并转移给光引发剂,或本身不吸收光能但协同参与光化学反应,起到提高引发效率的作用。

光致产酸剂

吸收光能生成酸性物质并使***区域发生酸解反应,用于化学增幅型光刻胶。

助剂

根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。

主要技术参数

分辨率(resolution)

是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来(CD,CriticalDimension)衡量分辨率。


北京赛米莱德贸易有限公司电话:010-63332310传真:010-63332310联系人:况经理 15201255285

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