离子镀膜设备的操作规范是怎样的？1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有***非正常放电装置，维持工作稳定。
实验室中使用小型镀膜设备我们在实验室中使用的基本上都是小型的镀膜设备，下面我们就来了解一下这种设备。用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢或碳钢制作，有水冷却装置。真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以保证快速的工作循环，也要求确保在蒸气镀膜时迅速排除从蒸发源和工作物表面所产生的气体。
真空镀膜设备的工作离不开相应的监测，那么如何监测呢？下面一起来看看吧。1.目视监控使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很，需求依托经历。2.定值监控法此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。3.水晶振动监控使用石英晶体振动频率与其质量成反比的原理工作的。可是石英监控有一个欠好的地方即是当膜厚添加到必定厚度后，振动频率不全然因为石英自身的特性使厚度与频率之间有线性关系，此刻有必要使用新的石英振动片。4.极值监控法当膜厚度添加的时候其反射率和穿透率会跟着起改变，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就能够知道镀膜之光学厚度ND是监控波长（入）的四分之一的整倍数。可是极值的办法差错对比大，因为当反射率或许透过率在极值邻近改变很慢，亦即是膜厚ND添加许多，R/T才有改变。反映对比的方位在八分之一波利益。
