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北京赛米莱德贸易有限公司

普通会员7
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:况经理
手机号码:15201255285
公司官网:www.semild.com
企业地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
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北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区,毗邻中芯国际,京东方,RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体,LED,TFT-LCD,太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体,太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的**解决方案......

贵州负性光刻胶-赛米莱德-负性光刻胶多少钱

产品编号:1903416043                    更新时间:2020-09-22
价格: 来电议定
 北京赛米莱德贸易有限公司

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  • 主营业务:光刻胶
  • 公司官网:www.semild.com
  • 公司地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208

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PR1-1500A1负性光刻胶

正性光刻胶的金属剥离技术

正性胶的金属剥离工艺对于获得难腐蚀金属的细微光刻图形比常规的光刻胶掩蔽腐蚀法显示了优越性。本文首先对金属剥离工艺中的正、负光刻胶的性能作了对比分析。认为正性光刻胶除图形分辨率高而适应于微细图形的掩膜外,它还具有图形边缘陡直,负性光刻胶多少钱, 去胶容易等独特性能,负性光刻胶厂家,比负性光刻胶更有利于金属剥离工艺。然后给出了具体的工艺条件,并根据正性光刻胶的使用特点指出了工艺中的关键点及容易出现的问题。如正性光刻胶同GaAs表面的粘附性较差,这就要求对片子表面的清洁处理更为严格。为了高止光刻图形的漂移控制光刻图形的尺寸,对***时同特别是显影液温度提出了严格的要求。由于工艺中基本上不经过腐蚀过程,胶膜的耐腐蚀性降到了次要地位。

美国Futurrex光刻胶

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)***工具。当显影后显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,贵州负性光刻胶,可以定制光刻速度来***产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据***能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是,NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量(%):31-35 主要溶剂: 外观: 浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。




光刻胶介绍

光刻胶(又称光致抗蚀剂),是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶具有光化学敏***,其经过***、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。


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