




化学机械抛光中抛光皮的主要作用
抛光皮是化学机械抛光(CMP)系统的重要组成部分。它具有贮存抛光液,红磨皮厂家,并把它均匀运送到工件的整个加区域等作用。
抛光皮的性能主要由抛光皮的材料种类、材料性能、表面结构与状态以及修整参数等决定。抛光皮的剪切模量或增大抛光皮的可压缩性,红磨皮价格,CMP过程材料去除率增大;采用表面合理开槽的抛光皮,可提高材料去除率,降低晶片表面的不均匀性;抛光垫粗糙的表面有利于提高材料去除率。对抛光皮进行适当的修整可以增加抛光垫表面粗糙度、使材料去除率趋于一致。与离线修整相比较,在线修整时修整效果比较好。
聚胺脂抛光片发泡孔的不同 抛光片发泡孔多利于抛光粉的流动性,抛光速率要好。抛光片发泡孔少的在亲水性能上要强,因聚胺脂在长时间抛光液的浸蚀下,发泡多的变形大于发泡少的聚胺脂抛光片,因此,发泡孔多的抛光片修盘次数相应增加。
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聚胺脂抛光片带背胶的优点 聚胺脂的粘结要选用流动性比较好的胶,红磨皮,有冷胶和热胶两种,如果胶层不均匀带来抛光片的不平整,而造成抛光的光圈不稳,所以采用带背胶的抛光片能达到胶层均匀,一般带背胶的聚胺脂抛光片多用平面加工。
聚胺脂抛光片修复使用 当聚胺脂抛光片在模具上粘附好后,应***行修盘。通常用w40的金刚石丸片对抛光模表面(球面或平面)进行校正和开1刃是十分必要的。在聚胺脂抛光摸使用的过程中,可根据需要采用刷子对聚胺脂表面进行打毛,将有助于提高抛光速率。
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