




六氟化硫的使用可以增加设备运行的安全性、缩小设备体积、延长设备寿命。近几年,***大力发展基础电力行业,给六氟化硫厂家带来了很大的市场机遇。
高纯六氟化硫(纯度在99.99%以上),国内需求非常旺盛,而且附加值较高。
高纯六氟化硫主要用于半导体工业中作清洗气体。
六氟化硫的成本只有NF3的几分之一,近年来,各公司以廉价的SF6取代以往CVD工艺中作为清洗气体的NF3的新技术正被广泛研究。
该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的CVD气体成本的同时,六氟化硫,还显示出了极i佳的环保前景,近年来用量有明显的提高。
据权i威机构预测,2010年我国将成为仅次于美国的世界第二大集成电路市场,总需求量约为500亿美元。目前国内使用高纯六氟化硫作为蚀刻气的生产线约有50条左右预计。2016年将达到700吨左右,
国内使用六氟化硫作为蚀刻气的生产线有近50条,在未来的五年预计将有20条至30条新线建成。每年约消耗高纯六氟化硫为600吨左右。而国内高纯六氟化硫产品远远不能满足市场需求,半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口,这给高纯六氟化企业提供更多的发展机遇。

纯净的SF6气体虽然***,六氟化硫价格,但在工作场所要防止SF6气体的浓度上升到缺氧的水平。SF6气体的密度大约是空气的五倍、SF6气体如有泄漏必将沉积于低洼处,如电缆沟中。浓度过大会出现使人窒息的***,设计户内通风装置时要考虑到这一情况。
高压击穿技术。
Dian击穿技术是从SF6在电力上的典型应用——作为绝缘气体应用在GIS开关柜中演变而来的。其工作原理是根据SF6气体绝缘的特性,六氟化硫供应商,从置于被检测空气中的高压电极间Dian压的变化来判断空气中是否含有SF6气体。因其结构相对简单,成本低,检测精度相对高的特点。

如果六氟化硫气体中含有超过规定的水分,当其湿度发生变化时,就可能凝结在固体绝缘表面使该面变潮,这时设备的沿面放电电压将显著下降。六氟化硫气体在电弧和电晕作用下分解生成的低氟化合物气体,假如没有水分子这个外部条件是不会生成SO2、HF及其它***物质的,从而也就可以避免由它们产生的设备腐蚀。所以,设备充装六氟化硫气体必须严密措施防止水分进入。

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