蚀刻:蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应:2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影:显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中,让影像显现的一个过程。通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
正显影时,显影色粉所带电荷的极性,与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时,在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下,色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分,吸附色粉的能力越强;静电潜像电位越低的部分,吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位(电荷的多少)的不同,其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。反转显影中,感光鼓与色粉电荷极性相同。
这个是对的,菲林胶片就bai是du黑白两色,黑的地方紫外线照不过去,白zhi色的地方能透光,这样显影的时候,在菲林上是黑色的地方,用碱水能洗下去,白色被紫外线晒过的就不容易洗掉,这样图就出来了,油墨是抗腐蚀感光油墨,因此他具有抗腐蚀性能。这个我也是在厂家学的,我前年在北京军政买的机器,你有时间可以去那看看,希望能帮您!你都了解清楚了吗?
负性胶与正性胶性能特征进行了比较,结论概括如下:
1、***显影过程不同
正性胶在***区间显影,负性胶则相反。
2、形成的轮廓不同
负性胶和正性胶边界漫射光形成的轮廓不同,负性胶由于***区间得到保留,漫射形成的轮廓使显影后的图象为上宽下窄的图像;而正性胶相反,为下宽上窄的图像。
3、显影剂的溶液不同
正胶溶于强碱,显影剂采用中型碱溶液,而是负性胶多采用有机溶液,如二甲本溶液。