蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分，吸附色粉的能力越强；静电潜像电位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位（电荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同。
这个是对的，菲林胶片就bai是du黑白两色，黑的地方紫外线照不过去，白zhi色的地方能透光，这样显影的时候，在菲林上是黑色的地方，用碱水能洗下去，白色被紫外线晒过的就不容易洗掉，这样图就出来了，油墨是抗腐蚀感光油墨，因此他具有抗腐蚀性能。这个我也是在厂家学的，我前年在北京军政买的机器，你有时间可以去那看看，希望能帮您！你都了解清楚了吗？负性胶与正性胶性能特征进行了比较，结论概括如下：
1、***显影过程不同
正性胶在***区间显影，负性胶则相反。
2、形成的轮廓不同
负性胶和正性胶边界漫射光形成的轮廓不同，负性胶由于***区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图象为上宽下窄的图像；而正性胶相反，为下宽上窄的图像。
3、显影剂的溶液不同
正胶溶于强碱，显影剂采用中型碱溶液，而是负性胶多采用有机溶液，如二甲本溶液。
