对形状复杂零件、线材、薄板和细小零件，用电化学抛光比机械抛光容易得多。
电化学抛光比机械抛光生产效率较高，但大型工件不能放人抛光槽中，并需要特别大的电流，难以进行电化学抛光。
电化学抛光工件表面电流密度必须均匀，必要时需用象形阴极，否则表面亮度不均匀。
电化学抛光时电流比较大，夹具与工件需有足够大的接触面积并接触良好，否则局部过热会烧毁工件。
某些用于奥氏体不锈钢抛光工艺不能用来抛光马氏体不锈钢，容易产生腐蚀
蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。模具集对板料成形与淬火作用与一身，其材料选择、结构设计都有着更为严格的要求，对于热冲压部件性能有着重要影响。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜较慢生长速度可控制在1单层／秒。通过控制挡板,可精准地做出所需成分和结构的单晶薄膜。
阳极氧化：主要是铝的阳极氧化，是利用电化学原理，在铝和铝合金的表面生成一层Al2O3（氧化铝）膜。这层氧化膜具有防护性、装饰性、绝缘性、耐磨性等特殊特性。
利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。针对不同的抛光过程:粗抛(基础抛光过程)，中抛(精加工过程)和精抛(上光过程)，选用合适的抛光轮可以达到好的抛光效果，同时提高抛光效率。
技术特点：提高工件的尺寸精度或几何形状精度，得到光滑表面或镜面光泽，同时也可消除光泽。
—种磁能指环支架，包括磁铁底座与铁制指环，磁铁底座与铁制指环均采用圆形结构设置，磁铁底座与铁制指环之间通过磁能吸附方式对应设置。
进一步而言，所述磁铁底座上表面设有圆形凹槽形导轨，铁制指环的外圆部分对应设置于圆形凹槽形导轨上，磁铁底座下表面设有粘贴装置。进一步而言，所述磁铁底座外层设有配套的外观铝件，外观铝件的外圆直径与铁制指环的内圆直径相等。
