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光催化反应工艺基本原理及步骤
Ti02做为一种半导体器件其本身的光学特点决策了它能够 作为纳米二氧化钛。半导体材料的可带构造一般是一个电子器件添充低动能价带（VB）和一个空的能量的导带（CB），导带和价带中间的地区被称作禁带。VOCs一企一策综合整治方案
当直射半导体材料的光动能相当于或超过带隙时，其价带电子器件被激起，越过禁带进到导带，并在价带中造成相对空化。电子器件从价带激起到导带，激起后分离出来的电子器件和空化都是有一部分进一步开展反映。VOCs一企一策综合整治方案
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已（拟）执行的VOCs综合性治理方案
加工工艺调节激励企业中VOCs排放量奉献大的生产制造阶段向相对性清理的产业集聚，逐渐取代VOCs排放量大的生产制造阶段；
表层喷涂行业营销推广选用静电粉末喷涂、高总流量底压喷漆枪等喷涂较高的喷漆工艺；
建筑涂料、印刷油墨和胶粘剂生产制造行业增加生产制造设备和加工过程的密闭式率，碾磨、油漆调色等生产制造设备边沿的密闭式率规定≥90%，鹤山市VOCs一企一策综合整治方案，激励选用密闭式化一体化的生产工艺；印刷包装行业营销推广选用活性溶剂涂料复合型加工工艺取代干试复合型加工工艺。应提升储存、装卸搬运、应用全过程的密封性，VOCs一企一策综合整治方案***，无机构有机废气应收尽收，搜集率不少于90%。
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活性碳吸附工艺的优点和缺点优势：
适用较低浓度的的各种各样空气污染物；
活性炭价格不高，能耗低，运用起來较为经济发展；
根据吸附冷凝可回收有机化合物；
运用便捷，只与同气体相触碰就可以充分发挥；
活性碳具备优良的耐腐蚀和耐温性，有机化学可靠性较高。VOCs一企一策综合整治方案
缺陷：
吸附量小，物理学吸附存有吸附饱和状态难题，伴随着吸附剂的耗费，吸附工作能力也减弱，应用一段时间后将会会出現吸附量小或丧失吸附作用；
吸附时，存有吸附的专一性难题，VOCs一企一策综合整治方案流程，对混合气，将会吸附性会变弱，另外也存有分子直径与活性碳直径不配对，导致吸附状况；VOCs一企一策综合整治方案
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